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Galvanoplastia

AGNIQUE® SLS 2490 P-B

Lauril sulfato de sódio

Recomendado como componente de banhos galvânicos e umectante para a formulação d...

GOLPANOL® ALS

Sal do Ácido Benzeno Sulfônico

Abrilhantador para níquel.

GOLPANOL® ATPN

Carboxyethylisothiuronium betaine

Abrilhantador para níquel e cobre.

GOLPANOL® BOZ

2-butil-1,4-diol

Abrilhantador superior para níquel.

GOLPANOL® HD

2-hexino-2,5-diol

Aditivo abrilhantador para indústria de galvanoplastia.

GOLPANOL® MBS

Nitrobenzeno sulfonato de sódio

Decapante.

GOLPANOL® PA

Álcool Propargílico

Abrilhantador superior para níquel.

GOLPANOL® PAP

Álcool Propargílico Propoxilado

Abrilhantador superior para níquel.

GOLPANOL® PME

Álcool Propargílico Etoxilado

Abrilhantador superior para níquel.

GOLPANOL® PS

Propargil sulfonato de sódio

Abrilhantador superior e básico para níquel.

GOLPANOL® VS

Vinil sulfonato de sódio

Abrilhantador básico para níquel.

LUGALVAN® ANA

4-Metoxibenzaldeído

Abrilhantador para zinco alcalino.

LUGALVAN® G35

Polietilenoimina

Abrilhantador para zinco alcalino e ácido.

LUGALVAN® HS 1000

Tiodiglicol etoxilado

Usado para a formulação de aditivos abrilhantadores no mercado de galvanoplastia.

LUTRON® HF 1

Poliglicol eter modificado

Ingrediente utilizado na produção de placas de circuito impresso. Componente de aditivos a...

LUTRON® Q 75

N, N, N',N'-tetrakis-(2-hidroxipropil)-etilenodiamina

Agente complexante para uso na produção de placas de circuitos impressos e na inústria de...

TENSAPOL® L61

Tensoativo não iônico base copolímero de bloco EO/PO

Utilizado na formulação de detergentes industriais e domésticos, galvanoplastia...

TENSAPOL® L62

Tensoativo não iônico base copolímero de bloco EO/PO

Utilizado na formulação de detergentes industriais e domésticos, galvanoplastia...

TEXAPON® ZACD

Lauril sulfato de sódio (pó).

É um tensoativo altamente concentrado, que apresenta excelentes propriedades detergentes e um...

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